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    >技術資料>應用說明

    威思曼電源應用于電子束光刻領域
    發布時間:2021-08-27    來源:威思曼    瀏覽量:838

    電子束光刻是應用電子束加工設備和掃描電子顯微鏡技術制作用于LSI生產的半導體光罩。電子束光刻也稱為電子束光刻(EB 光刻)或 EBL。掩模版也稱為光罩,其作用類似于照相膠片,作為基板,用于將電子元件的電路圖案轉移到晶片或其他要轉移的物體上。

    在電子束光刻中,從電子槍發出的電子束(E 束)被電子透鏡聚焦成一個非常小的光斑。通過根據光刻圖案控制會聚電子束的移動和載物臺的移動,對光刻材料進行電子光刻。電子束和載物臺的控制基于電子束加工設備和掃描電子顯微鏡技術。

    electron_beam_lithography.png

    電子束光刻設備所需的電子槍和電子透鏡需要高精度高壓電源來操作。

    威思曼高壓電源3D系列是專門為電子槍和電子束光刻設備的電子透鏡提供電源。這些高壓電源也可以定制以滿足客戶的要求。

    威思曼擁有一系列可用于電子束光刻的電源。示例:3D;3DA;EM ; SEM ; 

    3D.jpg

    3DA.png

    EM.png

    SEM.png

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