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    >技術資料>應用說明

    威思曼高壓電源針對E-chuck靜電吸盤的應用方案
    發布時間:2022-03-20    來源:wisman    瀏覽量:384

    背景

    在半導體和液晶面板制造工藝中,真空吸盤和機械吸盤系統通常用于固定基板以進行處理。然而,由于吸附、變形的影響以及對提高可靠性的要求,利用靜電力的吸盤已被廣泛應用于當今的半導體晶圓廠設備中,以克服這些限制。

    解決方案

    靜電吸盤由帶有表面電極的平板組成,這些電極被高壓偏置,以在平板和晶片之間建立靜電力。

    有兩種類型的靜電吸盤可供選擇:Coulomb 和 Johnsen-Rahbek (JR) 類型。它們的區別在于它們的介電特性。夾緊力的產生方式也是有些區別。

    庫侖吸盤的功能類似于傳統的介電電容器。

    JR 型具有較大但有限的電阻,因此當表面緊密接觸并施加電壓時,電流會流過它和基板。電荷積聚在襯底和電介質之間的界面處,從而提供夾持力。

    此外,吸盤上電極(或電極)的不同配置用于獲得不同的特性。根據應用,可提供單極、雙極(兩極)和多極卡盤(包括 6 相六極類型)。

    威思曼可為全系列的電子卡盤提供電源,其功能包括: 

    高壓雙極輸出(正/負), 

    輸出極性反轉功能,便于晶圓吸附/去吸附, 

    通過電容測量(庫侖卡盤)或電流測量(JR卡盤)檢測晶圓狀態的能力, 

    模擬和數字接口,可輕松集成到各種系統中

    高可靠性,無機械繼電器設計。

    威思曼提供廣泛的設計理論知識和制造能力,因此可以提供廣泛的定制產品以滿足各種要求。根據應用,功能包括高壓偏置/偏移和射頻濾波等選項。

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    威思曼高壓電源半導體領域的應用

    當今復雜的半導體制造工藝需要各種高壓電源解決方案,其中大多數都具有極其苛刻的規格。威思曼產品在整個晶圓廠中使用,從晶圓制程的開始到結束都有應用。從光刻 - 為光源供電 - 到靜電晶片夾持到檢查和測試設備,我們的精確、低噪聲、高度穩定的高壓電源確實是一種推動半導體技術快速發展的基礎。如果您正在從事半導體行業的晶圓制程請聯系威思曼了解我們提供的解決方案的更多信息。如果標準產品可能無法滿足您的需求,我們可以為 OEM 應用提供定制設計。



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